Zeiss蔡司 场发射扫描电镜 SUPRA 55/55VP

SUPRA 55是一款拥有第三代GEMINI 镜筒的高性能场发射电子显微镜，它有流行的摆动缓冲系统，并结合了5轴驱动载物台，通过不断变换电压可以获得很高的分辨率。 

对于使用者来说，SUPRA  55的系统功能强大，可以在相对不稳定的环境下完成检测，完全分析型的场发射扫描电镜探针电流可达到20nA ，适用范围如材料领域、半导体技术生命科学和纳米技术领域等。

 

用途：

    扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域，进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体/晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

    ZEISS的场发射扫描电镜全部采用新一代镜筒(GEMINI)设计，具有优良的高、低加速电压性能。创新的InLens设计是目前上优异真正的内置镜筒电子束光路上二次电子探测器，具有优异的灵敏度和高的接收效率，而且只接收来自样品表面的二次电子，因此具有业界高等的分辨率和图像质量。二次电子探测器和背散射电子探测器均内置于镜筒电子束光路上，试样的工作距离不受背散射探测器的影响，可以非常接近极靴，这样可以同时获得高的二次电子像分辨率和背散射电子像分辨率，且接收的背散射电子的能量可以控制。ZEISS的场发射扫描电镜创造性的采用电磁、静电复合式物镜，杂散磁场小，可对铁磁体样品进行高分辨率成像。

 

技术参数:

分辨率：  1.0nm @ 15 KV

                 1.7 nm @ 1 KV

                 3.5nm @0.2KV

                 4.0nm@0.1KV

                 2.0nm @30KV(VP mode)

放大倍数：12 - 900,000x

加速电压：0.1 - 30 KV

低压范围：2-133Pa  1Pa步进可调

探针电流：4 pA - 10 nA (4 pA - 20 nA 可选)

样品室：  330 mm (Ø) x 270 mm (h)

样品台：  5轴驱动

                 X = 130mm

                 Y = 130 mm

                 Z = 50mm

                倾斜角T = -3 to 70°

                 R = 360°连续旋转

系统控制：基于Windows XP 的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制